一、产品简介

XAU-4CS是一款一机多用型光谱仪，应用了先进的EFP算法和微光聚集技术，既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能，又可满足成分分析及Rohs检测。 对中小型企业预算有限，又想管控多个项目特别合适；
被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。

二、典型应用场景

电子元器件、磁铁等，钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB

三、产品特点

1）搭载微聚焦加强型X射线发生器和先进的光路转换聚焦系统，最小测量面积达0.03mm²

2）拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-30mm

3）核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精准检测第一层Ni和第三层Ni的厚度）

4）配备高精密微型移动滑轨，可实现多点位、多样品的精准位移和同时检测

5）装配DPP+FAST SDD，分辨率更高，测试速度更快，数据更加稳定

6）涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）

7）成分分析范围：铝Al（13）- 铀U（92）

8）RoHS、卤素有害元素检测

9）人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作

10）标配4准直器自动切换

11）配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度小于10%