XAD-μ是一款专用于超小测量点或极薄涂层的分析测量的仪器,在柔性电路板、芯片封装环节、晶圆微区的镀层厚度和成分自动测试分析中尽显优势。
可以测量微电子设备、高级线路板、连接器、引线框架和晶片的超微小区域。精度高达到纳米级,稳定性好RSD<2%。性能参数达到国外同类产品水平。
柔性电路板、芯片封装、晶圆微区、IC载板、连接器等
1)搭载微聚焦加强型X射线发生器及国内首创、全球领先的多导毛细管技术,测量直径小至10μm
2)全景+微区双相机设计,观察样品更为全面,微区小至微米级别的分辨率,实现更快速便捷的测试
3)基于EFP算法的新一代膜厚测量软件EFP-T,支持基于标样的定量分析,支持无标样定性分析,可同时分析23个镀层,24种元素
4)DPP+FAST SDD,优于125eV
5)测量元素范围:铝Al(13)-铀U(92)
6)涂镀层分析范围:锂Li(3)-铀U(92)
7)安全互锁、防夹手及Z轴防碰撞设置,V区激光保护,保护测量头的同时,最大化测量距离,可测样品类型范围更广
8)配备全自动可编程移动平台,可实现无人值守,对成百上千个样品进行全自动检测
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